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Rechnergesttzter Entwurf hochintegrierter MOS-Schaltungen by Wolfgang Rosenstiel

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ISBN-13
9783540502784
Book Title
Rechnergesttzter Entwurf hochintegrierter MOS-Schaltungen
ISBN
9783540502784
Series
Hochschultext Ser.
Publication Year
1989
Type
Textbook
Format
Trade Paperback
Language
German
Publication Name
Rechnergestützter Entwurf Hochintegrierter Mos-Schaltungen
Author
Wolfgang Rosenstiel, Raul Camposano
Item Length
9.6in
Publisher
Springer Berlin / Heidelberg
Item Width
6.7in
Item Weight
17 Oz
Number of Pages
VIII, 261 Pages

About this product

Product Information

Dieses Buch enth lt die notwendigen Grundlagen f r das Verst ndnis und den Entwurf hochintegrierter MOS-Schaltungen. Obwohl der rechnerunterst tzte Entwurf dabei im Vordergrund steht, werden die notwendigen physikalischen und elektrotechnischen Grundbegriffe nicht vernachl ssigt. Auch wird die Herstellung integrierter Schaltungen kurz angesprochen, da ein gewisses produktionstechnisches Verst ndnis f r den Entwurf notwendig ist. Damit ist dieses Buch weniger zur Erweiterung und Vertiefung der zu den angsprochenen Themen reichlich vorhandenen Spezialliteratur gedacht. Vielmehr sollen die notwendigen Grundlagen sowohl des Schaltungsentwurfs als auch der Entwurfsautomatisierung verst ndlich zusammengestellt werden, um den Leser in die Lage zu versetzen, auf dem Gebiet des Entwurfs hochintegrierter Schaltungen t tig zu werden und die Spezialliteratur zu verstehen. Der Leser lernt digitale MOS-Schaltungen in verschiedenen Schaltungstechniken auf der Schaltkreisebene verstehen und zu entwerfen. Es werden verschiedene Entwurfsstile vorgestellt und die gel ufigen Methoden und Algorithmen f r Layout-Erstellung detailliert beschrieben.

Product Identifiers

Publisher
Springer Berlin / Heidelberg
ISBN-10
3540502785
ISBN-13
9783540502784
eBay Product ID (ePID)
154361286

Product Key Features

Author
Wolfgang Rosenstiel, Raul Camposano
Publication Name
Rechnergestützter Entwurf Hochintegrierter Mos-Schaltungen
Format
Trade Paperback
Language
German
Series
Hochschultext Ser.
Publication Year
1989
Type
Textbook
Number of Pages
VIII, 261 Pages

Dimensions

Item Length
9.6in
Item Width
6.7in
Item Weight
17 Oz

Additional Product Features

Number of Volumes
1 Vol.
Lc Classification Number
Tk7885-7895
Table of Content
1 Einleitung.- 2 Technologische Entwicklung.- 2.1 Ein kurzer Vergleich mit anderen Schaltungstechniken.- 2.2 Entwicklung der Integration von MOS-Schaltungen.- 2.3 Entwicklung der Entwurfsautomatisierung.- 3 MOS-Grundschaltungen.- 3.1 Elektrische Grundlagen.- 3.1.1 Elektrischer Widerstand.- 3.1.2 Kapazität.- 3.2 Der Feldeffekttransistor.- 3.2.1 Leitung in Halbleitern.- 3.2.2 Der MOS-Kondensator.- 3.2.3 Der MOS-Transistor.- 3.2.4 Der Body-Effekt.- 3.3 Schaltungstechniken.- 3.4 nMOS-Schaltungen.- 3.4.1 Der nMOS-Inverter.- 3.4.2 Der Lastwiderstand.- 3.4.3 nMOS-Treiber.- 3.4.4 nMOS-Logikschaltungen.- 3.4.5 Pass-Transistor-Logik.- 3.4.6 Speicher.- 3.5 CMOS-Schaltungen.- 3.5.1 Der CMOS-Inverter.- 3.5.2 Eingangs-/Ausgangsschaltungen.- 3.5.3 CMOS-Logikschaltungen.- 3.5.4 Transmission-Gate.- 3.6 Dynamische CMOS-Schaltungen.- 4 Entwurfsstil.- 4.1 Voll-kundenspezifische Schaltungen.- 4.2 Entwurf mit Zellen.- 4.2.1 Makrozellen.- 4.2.2 Standardzellen.- 4.3 Entwurf mit Arrays.- 4.3.1 Gate-Arrays.- 4.3.2 Sea-of-Gates.- 4.3.3 PLA.- 4.4 Programmierbare Schaltungen.- 4.5 Vergleich.- 5 Einführung in die Entwurfsautomatisierung.- 5.1 Die Darstellungsbereiche.- 5.1.1 Der Verhaltensbereich.- 5.1.2 Der Strukturbereich.- 5.1.3 Der Geometriebereich.- 5.2 Die Entwurfsebenen.- 5.3 Die Entwurfsaufgaben.- 5.3.1 Synthesewerkzeuge.- 5.3.2 Analysewerkzeuge.- 5.4 Realisierungstechnik.- 5.5 Operations-und Steuerwerk.- 6 Rechnerunterstützte Layout-Erstellung.- 6.1 Layout-Editoren und Datenstrukturen.- 6.1.1 Listen.- 6.1.2 "Bins".- 6.1.3 "Quad-Tree".- 6.1.4 Nachbarzeiger-Strukturen.- 6.1.5 "Corner-Stitching".- 6.2 Layout-Sprachen.- 6.2.1 CIF.- 6.2.2 EDIF.- 6.2.3 In Programmiersprachen eingebettete Layout-Sprachen.- 6.3 Entwurfsregeln.- 6.4 Entwurfsregel-Überprüfung.- 6.5 Symbolisches Layout.- 6.5.1 Darstellung symbolischer Layouts.- 6.5.2 Kompaktierung.- 6.6 Schaltungsextraktion.- 6.7 Überprüfung der elektrischen Regeln.- 6.8 Layout-Synthese.- 6.8.1 Zellgenerierung.- 6.8.2 Floorplanning und Plazierung.- 6.8.2.1 Rechteck-Zerlegung.- 6.8.2.2 Netzlänge.- 6.8.2.3 Partitionierungsalgorithmen für Floorplanning und Plazierung.- 6.8.3 Verdrahtung.- 6.8.3.1 Globale Verdrahtung.- 6.8.3.2 Lokale genaue Verdrahtung.- 7 Masken-und Waferherstellung.- 7.1 Maskenherstellung.- 7.2 Waferherstellung.- 7.2.1 Oxidation.- 7.2.2 Musterübertragung.- 7.2.3 Ionenimplantation.- 7.2.4 Abscheiden.- 7.2.5 Kontaktherstellung.- 7.2.6 Metallisierung.- 7.3 Der Polysffizium-Gate-nMOS-Prozeß.- 7.4 Der Silizium-Gate-CMOS-Prozeß.- 7.5 Ausbeute.- 7.6 Skalierungseffekte.- 7.6.1 Auswirkungen der Skalierung auf Transistoren.- 7.6.2 Auswirkungen der Skalierung auf Leitungen.
Copyright Date
1989
Target Audience
Scholarly & Professional
Topic
Hardware / General, Electronics / General
Illustrated
Yes
Genre
Computers, Technology & Engineering

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grandeagleretail

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